半導體、電子潔凈廠房設計與施工要求

這個表格是我們半導體制造一些工藝生產過程的潔凈等級要求，要求一般的是光照制造，還有微環境，其他的一些大的區域，包括薄膜等在百級。潔凈度的要求是不是越高越好，這個主要還是決定我們的設計，或者對生產的要求，潔凈度越高意味著FFU覆蓋率會成倍的增加。目前對一些潔凈室的設計還是大環境，不需要很高的潔凈度。還有濕度控制，濕度控制主要通過循環通氣冷卻系統，去除潔凈室循環空氣的顯熱，最終控制潔凈室溫度。濕度控制主要通過新風控制箱進行控制，溫度的控制目的有兩個，首先是人員的舒適性，溫度在21-23度都沒有問題，作為制程來說我們關注的是波動性?？刂茲崈舴康臐穸戎饕康氖菨穸冗^低將容易產生靜電、濕度過高，對產品的影響。第二點是正壓，通過潔凈室內的壓力傳感器控制MAU風機的頻率改變送風量保持潔凈室的設定正壓，靜壓層保持微正壓。

再來就是照度和噪聲，這個部分在新的標準里面有詳細的描述，這里不具體講了。因為現在半導體制造設備尺寸越來越大，安裝起來一部分照明會被遮掩，噪聲的問題比較難解決，主要在設備選型的時候注意。接下來是靜電控制的問題(ESD)，這個本身會造成產品的損害或者設備的損害，半導體有ESD的標準。

無錫一凈凈化設備有限公司在各產業領域工程建設的道路上繼續堅持以科技為向導，以質量為準則，以客戶滿意為宗旨，嚴格遵守和落實ISO9001:2000標準、《潔凈廠房設計規范》以及專業規范要求，全過程項目管控，以項目類型為定調，定制化項目設計、實施的全產業化流程，解決客戶痛點，憑借自身的技術及經驗為客戶提供完備的環境控制工程整體系統集成解決方案的專業服務。